新笔趣

第477章 新光刻机 上市？（第1页）

次日清晨，楚千澜驱车抵达深蓝半导体。

二号生产楼的45纳米光刻设备正有条不紊地运转，淡紫色的极紫外光束在晶圆表面勾勒出细密纹路，而隔壁的28纳米光刻产线则被安保守住了出入口，空气中弥漫着紧张而肃穆的气息。

王世杰、张北光早已等候在观察窗前，脸上难掩兴奋与忐忑。

看到楚千澜走来，两人立刻迎了上去。

“楚总，设备已完成最后校准，光源功率稳定在±0.2%，工作台定位精度达±0.001微米，各项参数均优于设计标准。”张北光递上数据平板，声音带着抑制不住的颤抖。

楚千澜目光扫过屏幕上跳动的实时数据，微微颔首：“开始流片吧，重点监测良率与稳定性。”

王世杰抬手示意，技术人员立即按下启动按钮。28纳米光刻设备发出低沉的嗡鸣，传送臂精准抓取硅晶圆，缓缓送入预处理模块。

极紫外光源投射出比45纳米设备更细密的光束，在晶圆表面刻画出复杂的电路纹路，每一道线条都锐利如刀，误差控制在纳米级。

观察窗前，众人屏息凝视。屏幕上的流片进度条缓慢推进，涂胶、曝光、显影、蚀刻等工序一气呵成。当第一片晶圆完成流片，被送入检测设备时，整个车间鸦雀无声。

“线宽均匀度误差±0.002微米，符合设计标准！”检测工程师高声汇报，声音打破了死寂，“关键电路无桥连、无锯齿，光刻质量完全达标！”

王世杰长舒一口气，脸上露出欣慰的笑容：“按这个进度，首批100片晶圆将在两小时内完成生产，良率初步预估能稳定在92%以上。”

楚千澜凝视着屏幕上平滑的参数曲线，眸色中闪过一丝赞许：“92%的良率，超出预期。后续28纳米制程的芯片，要转移到这条新产线上生产。”

虽说45纳米光刻机也能生产28纳米芯片，但通过多重曝光技术生产芯片，需要增加多道工序，良率自然会降低。

王世杰眼中闪过炽热的光芒，重重点头：“明白楚总！我们已经提前规划了产能分配，28纳米产线满负荷运转时，月产能可达3万片晶圆，完全能满足繁星科技的需求。”

张北光补充道：“这条产线的核心部件国产化率达到96%，只有极个别高精度传感器来自海外，而且我们已经启动了国产替代研发，预计一年内就能实现完全自主供应。”